光学镀膜用大束密均匀区离子源

摘要：

介绍一个适用于光学镀膜用的直径为φ120mm的大束密均匀区离子源的结构设计及性能参数,并对影响束密均匀性的因素进行了讨论.

关键词： 离子源 束流密度 离子束辅助镀膜 镀膜均匀性 先学镀膜

作者: 况园珠 郑保民 李安杰

作者单位: 中国科学院空间科学与应用研究中心(北京)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十一届全国薄膜学术交流会

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 53-57

在线出版日期: 2001-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）