脉冲真空电弧离子镀发射特性的测量

摘要：

通过大量工艺实验,镀制了改变脉冲真空电弧离子源电源参数(主回路电压,脉冲频率)、基片高度以及磁场等工艺参数的样品,选择了一种合适的膜厚测量仪器进行了膜厚分布测量,获得了离子源各种工艺参数对其发射特性影响的曲线.

关键词： 膜厚测量 离子源 薄膜沉积 脉冲真空电弧离子镀 发射特性

作者: 蔡长龙 杭凌侠 李刚 徐均琪 严一心 朱昌

作者单位: 西安交通大学电气工程学院(陕西西安) 西安工业学院光电工程与科学系(陕西西安)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十一届全国薄膜学术交流会

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 49-52

在线出版日期: 2001-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）