新型可光刻侧链二阶非线性光学聚酰亚胺的合成与表征

摘要：

本论文合成了一系列新型可经紫外曝光直接光刻的侧链型非线性生光学共聚聚酰亚胺并对其性能进行了研究.

关键词： 光学聚合物 聚酰亚胺 二阶非线性光学 可直接光刻特性

作者: 陆炯心 隋郁 印杰 刘燕刚 朱子康 王宗光

作者单位: 上海交通大学化学化工学院(上海)

会议类型: 国内会议

会议名称: 2001年全国高分子学术报告会

会议地点: 郑州

会议语种:中文

页码: 347-348

在线出版日期: 2001-10-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）