会议专题

用位错控制技术生长高质量InAs层

位错控制技术 InAs层

蔡柳春 陈弘 包昌林 黄绮 周均铭

中国科学院物理研究所

国内会议

第五届全国分子束外延学术会议

昆明

中文

83-84

1999-06-20(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)