用廉价的光学曝光手段制作亚微米特种器件掩模

摘要：

该文主要介绍了利用光学曝光手段加工亚微米特种器件掩模工艺过程中的几个问题和解决方法。

关键词： 微细加工 光学曝光 电子束曝光 亚微米 特种器件 掩模

作者: 张卫红 李友 陈宝钦

作者单位: 院微电子中心(北京)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十一届全国半导体集成电路、硅材料学术会议

会议地点: 大连

会议语种:中文

页码: 224～226

在线出版日期: 1999-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）