微晶硅薄膜小角X射线散射研究

摘要：

用小角X射线散射（SAXS），Raman谱，红外透射谱等研究高氢稀释硅烷热丝法（HWCVD）制备氢化微晶硅膜微结构。结果表明微晶硅的大小及在薄膜中的晶态比随氢稀释度的提高而增加。SAXS表明薄膜致密度随氢稀释度的增加而增加。结合红外谱和SAXS的结果讨论了不同相结构下硅网络中H的键合状态。认为在非品硅膜中H以SiH为主，在微晶硅膜中H以SiH为主且主要存在于晶粒的界面。

关键词： 微晶硅薄膜 X射线散射

作者: 郭晓旭 董宝中

作者单位: 科学技术大学研究生院物理系(北京) 科学院高能物理研究所(北京)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第六届全国固体薄膜学术会议

会议地点: 成都

会议语种:中文

页码: 178～180

在线出版日期: 1998-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）