高性能双轴微加速度传感器制作研究
该文给出了将IC工艺与LIGA工艺相结合,在硅基材料上以镍金属为结构材料制作高性能微加速度传感器的研究结果。由于采用了金属材料,器件在较小的尺寸下可获得较高的灵敏度。采用特殊的结构形式,可使器件处于最佳阻尼状态。制作过程主要包括厚胶光学光刻,淀积电镀种子层,电化学淀积牺牲层、X射线掩模制作、X射线曝光等。
微加速度传感器 LIGA 光刻 IC工艺
刘泽文 刘理天 李志坚 伊福庭
清华大学微电子学研究所 北京高能所BEPC同步辐射实验室
国内会议
北京
中文
50~53
1999-10-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)