微型磁通门结构的研制

摘要：

利用微机械加工技术研制了微型磁通门元件，摸索了光敏聚酰亚胺的光刻条件和亚胺化条件以及多层金属选择性腐蚀的问题，并通过蒸镀和掩膜电铸两种途径制备了线圈芯，研究了不同电铸工艺参数（镀液中CFe<”2+>/CNi<”2+>比、电流密度、pH值）对NiFe镀层成份的影响，获得较为理想的成份比，并利用振动样品磁强计测得它们的磁滞回线。

关键词： 微机械加工技术 微型磁通门 光敏聚酰亚胺 掩膜电铸

作者: 王东红 陈伟平 游余新 王喜莲

作者单位: 哈尔滨工业大学MEMS中心(哈尔滨)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第六届全国敏感元件与传感器学术会议

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 70～73

在线出版日期: 1999-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）