微波ECR-CVD的宏观参数对a-C:F膜结构的影响

摘要：

利用CH<,4>和CF<,4>混合气体在微波等离子体ECR反应槽中不对基片加热和施加偏压的条件下沉积a-C:F膜.本文主要使用傅立叶变换红外吸收光谱(FTIR)技术来研究沉积气压、”CH<,4>”/”CF<,4>”流量比R与薄膜结构之间的关系.FTIR谱显示薄膜中存在CF,CF<,2>,C=C,C-H键以及芳香基.对退过火的薄膜进行红外分析表明,H键和CF<,2>键结构强度对退火温度较为敏感,而CF键则相对较为稳定.薄膜的重量在退火时主要是以H<,2>,F<,2>或HF形式损失.

关键词： 微波等离子体ECR技术 FTIR技术 介电材料 a-C F膜 绝缘薄膜

作者: 辛煜 方亮 陆新华 甘肇强 康健 叶超 程珊华 宁兆元

作者单位: 苏州大学理学院物理系(中国苏州) 苏州大学理学院化学系(中国苏州)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第四届中国功能材料及其应用学术会议

会议地点: 厦门

会议语种:中文

页码: 1573-1576

在线出版日期: 2001-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）