深亚微米投影光刻机逐场调平测量系统原理与设计

摘要：

介绍一种用于深亚微米投影光刻机的逐场调平测量系统，讨论其工作原理和设计方法，给出部分实验结果。

关键词： 投影光刻 逐场调平 测量系统

作者: 胡松 姚汉民 张津

作者单位: 科学院光电技术研究所(成都)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十届全国电子束、离子束、光子束学术年会

会议地点: 长沙

会议语种:中文

页码: 315～320

在线出版日期: 1999-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）