电磁线表面发黑的研究

摘要：

通过Ｘ射线衍射和ＸＰＳ对电磁线表面黑膜及模拟腐蚀试样的表面膜进行了分析，测得表面黑膜主要曲Ｃｕ〈，２〉Ｏ，ＣｕＯ，ＣｕＣＯ〈，３〉·Ｃｕ（ＯＨ）〈，２〉，Ｃｕ的氯化物和硫化物以及钠盐、ＳｉＯ〈，２〉等组成。由此对电磁线表面发黑的原因进行了详细的探讨。

关键词： 铜 电磁线 发黑

作者: 陈范才 周海晖 何德良 杨喜云

作者单位: 大学化学化工学院

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国腐蚀与防护学会合金耐蚀理论第七届学术年会

会议地点: 张家界

会议语种:中文

页码: 35～39

在线出版日期: 1998-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）