会议专题

CRT用殷钢荫罩黑化技术研究

该文叙述了我们对CRT用殷钢荫罩黑化技术的研究,它是利用链式黑化炉,在DX气体的氛围中进行实验,做出了殷钢荫罩黑化膜厚度随黑化时间、黑化膜厚度随黑化温度、黑化膜厚度随CO含量、黑化膜厚度随O〈,2〉含量变化的四条曲线,并对黑化后的荫罩进行了金相分析和制管实验。通过对该技术的研究,我们较好地完成了殷钢荫罩的黑化工艺。

CRT 殷钢荫罩黑化技术 黑化膜

窦秀英 宋利建 贺群胜

电子集团公司技术中心

国内会议

中国电子学会真空电子学分会第十二届学术年会

南京

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170~173

1999-12-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)