HIRFL剥离器碳膜的制备及应用
根据兰州重离子加速器(HERFL)速流运行的要求,我们研制成功了一套完整的制膜、解膜技术.经过反复实验摸索,在GD-450B高真空多层镀膜机内,使用自制的水平电极支架,采用断续产生电弧方法,在与蒸发源相距18cm的水平玻璃基片上可得到所需的碳膜,一般来说,在真空度为10<”-5>乇,起弧电压100V,电流为30A以下,起弧5min状态下,使用不同的制做时间,可以得到20-100μg/cm<”2>不同厚度的碳膜,为了得到容易解离,均匀性好且寿命长的无衬底碳膜,必须在玻璃基片上具有合适的解离剂的反复摸索比较,最后选定氯化镍为解离剂.在不断改进制膜技术和实验条件情况下,不但膜的寿命增长,而且我们还成功地制作了一些薄膜(厚度在20-30μg/cm<”2>),从而满足了加速器的需求.
碳膜制备 碳膜解离 重离子加速器解离剂
楼美玲 张共祥
中国科学院近代物理研究所(兰州)
国内会议
兰州
中文
213-215
2000-05-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）