小临界电流台阶晶界结YBCO薄膜工艺研究

摘要：

研究了直流磁控溅射参量对薄膜生长速率的影响。在自动化程度不高的普通溅射设备，通过适当增加预溅射时间、严格控制溅射电压和时间，在不计衬底粘贴质量的条件下可以将YBCO薄膜的沉积速率控制在5℅以内。

关键词： 台阶晶界结 电路拓扑 噪声特性

作者: 刘乐园 聂瑞娟 马平

作者单位: 人工微结构和介观物理国家重点实验室北京大学物理系)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第五届全国超导薄膜和超导电子器件学术会议

会议地点: 成都

会议语种:中文

页码: 231～233

在线出版日期: 2000-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）