双阴极辉光放电合成金刚石薄膜的研究

摘要：

介绍了一种合成金刚石薄膜的新方法即双阴极辉光放电合成金刚石薄膜法及其基本原理。采用该法在Si、Mo等基片上合成了金刚石薄膜，从其X-射线衍射分析及形貌显示薄膜的品质较为理想。

关键词： 双阴极辉光放电 金刚石薄膜

作者: 田林海 贺琦 潘俊德 刘俊亮 徐重

作者单位: 太原理工大学表面工程研究所

会议类型: 国内会议

会议名称: 1999年第二届表面工程国际会议

会议地点: 武汉

会议语种:中文

页码: 236-237

在线出版日期: 1999-10-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）