Co／V多层膜的结构及铁磁共振的研究
该文报道了射频磁控溅射制备的Co/v多层膜的结构及铁磁共振行为。对其微结构的研究发现多层膜是由柱状晶粒构成的多晶薄膜，在膜的生长方向具有fcc CO（111）和bccV（110）织构，且存在较严重的界面合金化。从铁磁共振谱中一致进动峰计算出的g因子和4Me值偏小也说明了这一点。当V层较薄时（＜2.4nm）普遍观测到自旋波共振峰，根据拟合计算出的较小的层间耦合常数说明多层膜中存在较弱的层间耦合作用。
Co／V多层膜 铁磁共振
吴静 杜军
大学物理系,固体徽结构物理国家重点实验室 大学现代分析中心
国内会议
中国物理学会第三届纳米磁性材料和物理学术讨论会第五届全国磁性薄膜学术会议
杭州
中文
70～71
1998-05-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）