会议专题

PAI+LEI形成适用于深亚微米MOS器件中SD Extension区超浅结的工艺研究

深亚微米MOS器件 超浅结 离子注入

殷华湘 高文方 索俊生 徐秋霞

科学院微电子中心一室

国内会议

第十一届全国半导体集成电路、硅材料学术会议

大连

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294~297

1999-09-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)