用172nm Excimer紫外光源制备钽氧化物薄膜研究
报道了利用新型Excimer紫外光源制备钽氧化物薄膜的新方法。在单晶硅衬底上将溶胶-凝胶液旋转涂膜后，通过172nm紫外光源辐照，在低温下即可制得钽氧化物薄膜。用椭偏仪、傅立叶变换红外光谱（FTIR）、X光光电子能谱（XPS）等分析方法对薄膜的性质进行了分析，结果表明，所制备钽氧化物薄膜的原子比O／Ta在2.4～2.6之间，与化学计量化合物Ta<,2>O<,5>的2．5相当；用该膜制成的MOS电容高频C-V曲线表明，薄膜电学性能良好。
溶胶-凝胶法 钽氧化物 簿膜 Excimer紫外灯
别利剑
师范专科学校化学系(山东)
国内会议
重庆
中文
1078～1080
1998-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）