会议专题

FeIII/II、H2O2和TiO2存在下染料的紫外光和可见光降解及其反应机理

染料 紫外光 可见光降解 反应机理

许宜铭 吕惠卿 于小涵

浙江大学化学系,无机与材料化学研究所

国内会议

2000”全国光催化学术会议

福州

中文

167-168

2000-10-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)