TiAl的氢化物脆和滞后断裂机理
TiAl存在两类氢脆，即氢化物引起的脆性以及原子氢引起的滞后断裂。室温时TiAl中的氢合部变为氢化物，随氢化物含量升高，K<,IC>下降，即显示氢化物脆。表面镀Ni-P避免阴极腐蚀后预充氢使氢化物饱和，然后加载充氢，进入的原子氢通过扩散、富集后能导致滞后断裂。动态充氢使断裂临界应力强度因子下降约50℅，其中20℅归因于氢化物，而30℅则归因于原子氢TiAl氢化物脆弱的体质和任何第二睛引起的脆性相同。原子氢引起的滞后断裂则是氢促进局部塑性变形，局部应力集中等于被氢降低了的原子键合力，从而引起氢致裂纹形核、扩展的结果。
氢化物 氢致滞后开裂 钛铝合金
高克玮 王燕斌 乔利杰 褚武扬
北京科技大学材料物理与化学系(北京)
国内会议
北京
中文
181-185
1999-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）