纳米氧化锌薄膜的制备与特性研究

摘要：

以SiO<,2>/Si,Au/SiO<,2>/Si和玻璃为基片，利用直流磁控溅射装置淀积了nc-ZnO薄膜，应用磁控溅射技术淀积压电nc-ZnO薄膜可以减小电子对nc-ZnO薄膜表面的轰击损伤，增加电子与反应粒子的碰撞几率，同时又减小界面应力，实验获得nc-ZnO薄膜的晶粒尺寸约为25nm，电阴率ρ＞10<”9>Ω·cm，晶面族(002)X射线衍射峰位置2θ=34.44，有很好的晶态c轴取向。

关键词： 薄膜晶体 压电效应 纳米薄膜材料 纳米氧化锌

作者: 林鸿溢 张焱 李映雪

作者单位: 北京理工大学电子工程系 北京大学微电子研究所

会议类型: 国内会议

会议名称: 第一届全国纳米技术与应用学术会议

会议地点: 厦门

会议语种:中文

页码: 85～86

在线出版日期: 2000-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）