薄膜厚度对ZnO:Al透明导电膜的结构和光电性能的影响

摘要：

采用射频磁控溅射法在Corning 7059玻璃和有机衬底上制备了ZnO:Al透明导电膜.研究了薄膜厚度的变化对薄膜的结构性质、光电性质的影响,性能最好的薄膜电阻率分别为8.55×10<”-4>Ω·cm和1.89×10<”-3>Ω·cm,透射率达到了85℅和80℅.

关键词： 薄膜厚度 ZnO Al透明导电膜 柔性衬底 半导体材料

作者: 郝晓涛 马瑾 田茂华 马洪磊 叶丽娜 黄树来 程传福 滕树云

作者单位: 山东大学光电材料与器件研究所(山东济南) 山东师范大学物理系(山东济南)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第四届中国功能材料及其应用学术会议

会议地点: 厦门

会议语种:中文

页码: 1399-1401

在线出版日期: 2001-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）