磁控溅射制备非掺杂/W掺杂氧化钒薄膜结构研究

摘要：

ＸＰＳ对磁控溅射制备的氧化钒薄膜结构进行了研究。对于非掺杂氧化钒薄膜可以用ＸＰＳ谱Ｖ２ｐ〈，３／２〉特征峰标定薄膜的相结构。对于Ｗ掺杂的氧化钒薄膜，ＸＰＳ不仅可以标定薄膜的相结构而且还可以给出Ｗ掺杂量的定量结果。

关键词： 薄膜 氧化钒 氧化钒钒薄膜 薄膜结构 磁控溅射

作者: 崔敬忠 达道安 姜万顺 李喜梅 王枚

作者单位: 物理研究所 大学物理系

会议类型: 国内会议

会议名称: 1998年中国材料研讨会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 214～216

在线出版日期: 1999-01-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）