掺铒a-Si:H,O薄膜光致发光和微结构

摘要：

采用等离子化学气相淀积(PECVD)技术和离子注入方法，制备掺铒a-Si:H,O薄膜。在波长1.54μm处观察到很强的室温光致发光(PL)。研究了掺铒a-Si:H,O薄膜微结构。讨论了发光强度与薄膜微结构的关系。

关键词： 气相沉积技术 离子注入法 掺铒a-Si H,O薄膜 光致技术 微结构

作者: 陈维德 梁建军 李秀琼

作者单位: 科学院半导体研究所(北京) 院凝聚态物理中心和表面物理国家重点实验室(北京) 科学院微电子中心

会议类型: 国内会议

会议名称: 第七届全国固体薄膜学术会议

会议地点: 广西北海

会议语种:中文

页码: 118～120

在线出版日期: 2000-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）