纳米氮化硅粉料的热稳定性及表面处理
该文采用sol-gel工艺方法在纳米Si<,3>N<,4>颗粒表面包裹Al<,2>O<,3>,以改善纳米Si<,3>N<,4>的热稳定性,改善其烧结性能,研究结果表明:纯纳米Si<,3>N<,4>在N<,2>气氛下分解温度约为1200℃。随着包裹Al<,2>O<,3>含量(wt)的增加,纳米Si<,3>N<,4>的热分解温度也随着升高,当Al<,2>O<,3>的含量为20wt℅时,其分解温度约为1437.5℃。由于采用了在纳米Si<,3>N<,4>表面包裹Al<,2>O<,3>使得纳米Si<,3>N<,4>的烧结体的密度有所提高。
纳米Si<,3>N<,4> 热稳定性
胡晓清 曾照强
大学材料科学与工程系(北京)
国内会议
青岛
中文
48~51
1998-09-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)