会议专题

M1G 录像机磁头用FeSiAl 超厚膜

报道了控制FeSiAl膜应力的几种有效方法,膜应力为10 7dyn/cm 2量级。20um、30um超厚FeSiAl膜,并制成了录像机磁头。

录像机磁头 FeSiAl 超厚膜

宋庆山 方光旦

科学院计算技术研究所(北京) 大华电子有限公司

国内会议

中国物理学会第三届纳米磁性材料和物理学术讨论会第五届全国磁性薄膜学术会议

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1998-05-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)