ＤＢ７电子束曝光机在亚微光曝中的应用

摘要：

介绍ＤＢ７电子束曝光机制作２英寸ＧａＡｓ单片集成电路掩模板图形情况和结果，并结合机器性能特点、关键性措施等对亚微光曝光图形精度的保证进行了深入的讨论。

关键词： 邻近效应 相移掩模 直接光刻

作者: 张俊国 周开宇 郭忠君 彭立波

作者单位: 产业部电子第48研究所(长沙)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十届全国电子束、离子束、光子束学术年会

会议地点: 长沙

会议语种:中文

页码: 40～42

在线出版日期: 1999-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）