光学光刻中的邻近效应校正新方法研究

摘要：

光学光刻中的邻近效应杰严重降低光刻图形的质量，是妨碍大规模集成电路高集成度发展的一个重要原因，光学邻近校正已成为亚微米光刻掩模优化设计的必备工具。在该文中，基于波前加工的思想。我们提出了两种邻近效应校正的新方法，并给出了较好的实验结果，为邻近效应精细校正提供了新途径。

关键词： 邻近效应 波前加工 辅助线条 亮暗衬线 灰阶掩模

作者: 杜惊雷 粟敬钦 姚军 张怡霄 铮 高福华 郭永康

作者单位: 大学物理系(成都) 卢瑟福实验室 大学物理系

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十届全国电子束、离子束、光子束学术年会

会议地点: 长沙

会议语种:中文

页码: 321～325

在线出版日期: 1999-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）