光敏聚合材料在立体光刻技术中的应用研究

摘要：

立体光刻技术打破了原有模型制造的模式，减少了模型制造的循环周期，降低了材料消耗。该文介绍了用立体光刻技术制造模型的基本原理，对光敏聚台材料在立体光刻技术中的应用进行了研究。

关键词： 立体光刻 光敏树脂

作者: 阴金香 孟怀东

作者单位: 大学化学系(北京)

会议类型: 国内会议

会议名称: 1998年全国高分子材料工程应用研讨会

会议地点: 武夷山

会议语种:中文

页码: 49～52

在线出版日期: 1998-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）