会议专题

用气相沉积方法在低气压下制备BN的高压相:E-BN、c-BN、w-BN

用射频磁控溅射的方法得到了低应力立方氮化硼薄膜。红外光谱结果表明薄膜具有很好的附着力,且含有少量的E-BN和w-BN。电子衍射谱表明薄膜表层是纯的立方相。同时利用此方法得到了E-BN的薄膜。本工作提出了薄膜生长过程可能经历了一个从E-BN到c-BN的相转变过程。

立方氮化硼薄膜 相转换 高压相材料 气相沉积方法

朱品文 赵永年 赵永年 邹广田 何志

吉林大学超硬材料国家重点实验室 吉林大学超分子结构与谱学开放实验室

国内会议

第十届全国高压学术讨论会

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52-52

1999-10-05(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)