会议专题

PHEDP、PSⅡ和ECR等离子体材料表面改性及制膜

离子体 材料 改性 薄膜 制备

杨思泽 李兵 任育峰 刘赤子 吴杏芳 韦鲲 付莺

科学院物理研究所 科技大学

国内会议

全国薄膜学术讨论会

上海

中文

77~87

1999-10-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)