用于衬底台阶制备的离子束刻蚀掩膜

摘要：

采用直流磁控溅射法制作了用于衬底台阶刻蚀的铬膜。为了控制衬底台阶的质量，实验研究了铬膜沉积条件与耐刻蚀性和耐腐蚀性间的关系。

关键词： 离子束刻蚀薄膜 直流磁控溅射 衬底台阶 耐刻蚀性 耐腐蚀性

作者: 石玉桥 张升源 王守证

作者单位: 人工微结构和介观物理国家重点实验室北京大学物理系)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第五届全国超导薄膜和超导电子器件学术会议

会议地点: 成都

会议语种:中文

页码: 237～239

在线出版日期: 2000-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）