离子束辅助淀积低温微光学元件红外宽带增透膜

摘要：

简要叙述了锗基片微光学元件红外宽带减反膜的设计与制作。着重介绍了离子束辅助淀积制备该膜系的过程，给出了用该方法制作8～12μm波段的减反膜的测试曲线，它具有峰值透过率高，在设计波长范围内的平均透过率大于97℅以上，膜层附着好，可以切割和擦洗，可以在室温和100K低温下反复循环使用。

关键词： 离子束辅助淀积 增透膜 镀膜技术

作者: 黄伟 张云洞

作者单位: 科学院光电技术研究所(成都)

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国光学学会光学制造技术专业委员会首届学术会议

会议地点: 成都

会议语种:中文

页码: 94～95

在线出版日期: 1998-05-20（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）