用于光刻的高分辨力离轴掩模研究

摘要：

该研究中，将离轴照明与相移掩模技术结合起来，在掩模上同时实现两种功能，可较大程度提高光启程分辨力，实验表明，在数值孔径０．４２，ｉ线曝光波长下，可将光刻分辨力从０．８微米提高到０．５微米。

关键词： 离轴照明 相移掩模 光刻分辨力

作者: 罗先刚 姚汉民 周崇喜 冯伯儒

作者单位: 院光电所微细加工光学技术国家实验(成都) 院光电所微细加工光学技术国家实验

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十届全国电子束、离子束、光子束学术年会

会议地点: 长沙

会议语种:中文

页码: 338～340

在线出版日期: 1999-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）