关键词： 扩展电阻 倾斜角度 测量 硅 研磨
作者: 赵丽霞 陈秉克 吴福民
作者单位: 部第十三研究所
会议类型: 国内会议
会议名称: 1998年全国半导体硅材料学术会议
会议地点: 上海
会议语种:中文
页码: 252～253
在线出版日期: 1998-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）