灰阶编码方法制作折射微透镜

摘要：

采用编码灰阶掩模制作了折射微透镜，考虑透过掩模光强分布和抗蚀剂成像过程的非线性影响，以掩模设计进行了修正，基于部分相干光理论和抗蚀剂显影模型，对经过掩模的空间光强分布和抗蚀剂成像进行了模拟。给出了模拟结果和实验结果。

关键词： 编码灰阶掩模 微光学元件 折射微透镜 光刻

作者: 姚军 粟敬钦 杜惊雷 高福华 郭永康

作者单位: 大学物理系(成都)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十届全国电子束、离子束、光子束学术年会

会议地点: 长沙

会议语种:中文

页码: 404～409

在线出版日期: 1999-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）