菁染料光解机理的前线分子轨道研究
菁染料光稳定性较差,为提高其光稳定性,结合实验,作者提出多种光解机理,本人通过SCF PM3和AMI MO计算研究,揭示了正离子型菁染料与相应中性化合物在分子几何,电荷分布,前线分子轨道能级和组成等方面的不同特点.阐明了标题物的光解机理和正离子较中性化合物光稳定的根由.
菁染料 光解机理 前线分子轨道 光记录介质 光稳定性
尚兴宏 田禾 贡雪东 肖鹤鸣
南京理工大学化学系(南京) 华东理工大学精细化工研究所(上海)
国内会议
张家界
中文
44-45
2000-08-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)