金刚石厚膜界面层结构研究
该文采用直流热阴板等离子体化学气相沉积法（简称直流PCVD方法）制备了金刚石厚膜，并且根据本方法的特点，提出了一个新的测量金刚石膜界面层结构的方法。采用显微拉曼光谱仪、X射线光电子谱仪（XPS）、及调射线衍射仪（XRD）等，测试分析了界面层的成分和结构，测试分析结果表明，界面层中含有石墨结构，它是以纳米级微晶的状态存在的。另外，界面层中含有O、MO、Ta 等杂质。对于它们的存在状态进行了分析研究。
金刚石厚膜 界面层
白亦真 金曾孙 王春蕾 姜志刚
大学超硬材料国家重点实验室(长春)
国内会议
重庆
中文
999～1001
1998-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）