CVD金刚石薄膜RIE刻蚀的掩膜技术

摘要：

金刚石薄膜RIE刻蚀必须选用硬掩膜,NiTi合金掩膜具有刻蚀选择比高、加工工艺简单、图形化效果好的优势,Ni掩膜特别是电镀方法制作的Ni掩膜以其精确的尺寸控制能力、理想的多层结构模式和适当的刻蚀选择比而特别适合于精细结构加工时使用.用上述掩膜对金刚石薄膜进行RIE刻蚀,可以获得线条整齐规则、侧壁平滑陡直的优异加工效果.

关键词： 金刚石薄膜 反应离子刻蚀 掩膜

作者: 丁桂甫 赵小林 杨春生 俞爱斌 姚翔 沈天慧

作者单位: 上海交通大学微米纳米研究院(上海)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第四届全国微米/纳米技术学术会议

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 48-50

在线出版日期: 2000-06-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）