铜基片上金刚石薄膜的生长研究

摘要：

采用微波等离子体化学气相沉积法在铜基片上生长金刚石薄膜。针对铜基片的特点，采用涂层法预处理铜基片，扫描电子显微镜给出的结果表明该法能获得有效的成核密度。同时也增强了附着力。结合实验现象分析了金刚石薄膜的内应力。

关键词： 金刚石薄膜 成核密度 内应力

作者: 马志斌 邬钦崇 汪建华

作者单位: 中国科学院等离子体物理研究所 武汉化工学院材料工程系

会议类型: 国内会议

会议名称: 第九届全国等离子体科学技术会议

会议地点: 大连

会议语种:中文

页码: 113-114

在线出版日期: 1999-08-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）