溅射沉积的Mo/SiO2多层膜

摘要：

该文利用低角X射线衍射，俄歇电子能谱、截面高分辨电子显微镜及能量滤波电子显微镜元系成相等实验手段分析了用磁控溅射方法制备的Mo/SiO2多层薄膜样品的成分、厚度、界面精糙度及界面的扩散情况等。同时利用截面高分辨电子显微镜及Auger 电子能谱方法对膜的热稳定性作了热退火研究。

关键词： 溅射法 多层薄膜 热稳定性 热退火

作者: 王凤平 王佩璇

作者单位: 北京科大天宇微电子材料技术开发有限公司(北京) 北京科技大学(北京)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第七届全国固体薄膜学术会议

会议地点: 广西北海

会议语种:中文

页码: 92～94

在线出版日期: 2000-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）