焙烧温度对甲烷部分氧化催化剂Ni/Al<,2>O<,3>性能的影响
应用XRD,TPR,H<,2>-TPD技术研究焙烧温度对Ni/δ-Al<,2>O<,3>催化剂的影响,同时在固定床流动反应装置上评价不同焙烧温度Ni/δ-Al<,2>O<,3>催化剂的甲烷部分氧化制合成气性能及测试反应引发温度.催化剂均采用浸渍法制备:将δ-Al<,2>O<,3>载体浸渍于Ni(NO<,3>)<,2>水溶液中,水浴蒸干,300°C预分解,在空气中分别于300,500,800°C焙烧6小时,分别标记为N3,N5,N8.反应测试前在25ml·min<”-1>H<,2>气流中600°C还原2hr.反应条件为:空速7×10<”5>ml.g<”-1>.h<”-1>,CH<,4>:O<,2>=2:1,反应温度为400°C.
焙烧温度 甲烷氧化 合成气 金属催化剂 催化性能
周振华 张爱莲 龚茂初 陈耀强
四川大学化学学院(成都)
国内会议
张家界
中文
353-354
2000-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）