等离子刻蚀过程中的微弱信号提取与终点监测

摘要：

在用等离子发射光谱技术监测大规模集成电路等离子该蚀过程及终点时，为了有效的抑制该底光对监测结果的影响，作者采用了双波长法和具有采样跟踪滤波器的锁相技术，从强光背景中提取了反映等离子蚀过程的微弱等离子谱信号，利用该信号本身的特征并采用数值商法实现了刻蚀终点监测，获得了优于８０×１０〈’－１０〉ｍ（Ａ）的动态监测精度和小于０．３ｃｍ〈’２〉的最小监测面积。

关键词： 集成电路 跟踪滤波器 锁相技术 微弱信号 终点监测

作者: 米宝永 宋克非

作者单位: 科学院长春光学精密机械研究所

会议类型: 国内会议

会议名称: 第八届全国微弱信号检测学术年会

会议地点: 南京

会议语种:中文

页码: 55～58

在线出版日期: 1998-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）