激光直写系统在ASIC器件制作中的应用

摘要：

激光直写系统是制作光刻掩模和ＡＳＩＣ器件的新型专用设备。微细加工光学技术国家重点实验室引进了国内第一台激光直写系统。利用这台系统，通过高精度激光束在光致杭蚀剂上扫描曝光，能把设计图形直接转移到掩模版或芯片上。该文介绍激光直写系统在ＡＳＩＣ器件制作中的应用和具体工艺。

关键词： 激光直写 光刻 ASIC器件

作者: 侯德胜 冯伯儒

作者单位: 科学院光电技术研究所(成都)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十一届全国半导体集成电路、硅材料学术会议

会议地点: 大连

会议语种:中文

页码: 233～236

在线出版日期: 1999-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）