硅基平面波导材料的制作
采用火焰水解法(FHD)在Si基上淀积SiO<,2>预制材料,然后在真空中/空气气氛中高温处理(1380℃),制得玻璃化的SiO<,2>膜材料;该材料膜厚适中(10~30μm)、平整度好、光滑透明,适合制作单模、多模列阵平面波导光栅。并利用XRD、SEM、台阶仪等仪器对SiO<,2>膜进行了测试分析。
火焰水解法 波导 玻璃态Si O<,2>
吴远大 张乐天 邢华
吉林大学电子工程系光电子国家重点实验室(长春)
国内会议
海口
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432~435
2000-11-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)