氮离子注入CVD金刚石薄膜场电子发射的初始过程

摘要：

该文研究了氮注入ＣＶＤ金刚石薄膜的场电子发射行为。实验表明，稳定发射的形成具有规律性的击穿、激活和稳定发射三阶段特征。文中还提出了一种修正的激活模型解释了该过程，讨论了发射机理。

关键词： 化学汽相沉积 离子注入 金刚石膜 氮注入 场电子发射 击穿 激活

作者: 邵乐喜 刘小平 陈光华

作者单位: 大学物理系 师范学院物理系 工业大学应用物理系

会议类型: 国内会议

会议名称: 1998年中国材料研讨会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 618～620

在线出版日期: 1999-01-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）