流态化CVD包硅的Fe<,3>O<,4>的氧化行为

摘要：

采用流态化ＣＶＤ包硅技术制得了表面均匀包覆ＳｉＯ〈，２〉的Ｆｅ〈，３〉Ｏ〈，４〉磁粉。对该包硅Ｆｅ〈，３〉Ｏ〈，４〉磁粉的氧化机理和动力学进行了研究。结果表明，氧化反应机理符合三维球对称扩散模型，氧化反应活化能随包硅量的增加而增加，流态化ＣＶＤ包硅能提高Ｆｅ〈，３〉Ｏ〈，４〉磁粉的抗氧化作用在于粒子表面形成了均匀的ＳｉＯ〈，２〉保护层。

关键词： 化学汽相沉积 包覆 包硅 四氧化三铁 氧化 流态化包覆 磁粉

作者: 朱以华 吴秋芳 李春忠

作者单位: 理工大学技术化学物理研究所(上海)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第四届全国超微颗粒学术研讨会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 128～134

在线出版日期: 1998-10-07（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）