会议专题

化学镀双层镍工艺的研究

采用两种不同的化学镀镍液,获得了稳定电位差为170mV以上的双层化学镀镍层,有效地降低了镀层孔隙率,同时提高了镀层自身的耐腐蚀性能。

化学镀镍 双层镀 电位差 孔隙率 耐蚀性

李宁 袁国伟

滨工业大学应用化学系 二轻工业研究所

国内会议

第四届全国化学镀会议

杭州

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25~28

1998-09-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)