化学镀铁基软磁性薄膜的研究
利用化学沉积方法制备了Fe-TM-B(TM=Fe,W,Mo,Sn,Mo-W)以及Ni-TN-P(TN=Fe-B)软磁性薄膜,实验结果与已报道的Fe-P,Ni-Fe-P(B)化学膜进行了比较.以下实验结果被发现:软磁膜的磁性参数μ(μB),Ms,Hc,Mr/Ms敏感于成份,但不因成分改变产生大幅度的变化.所研制Ni-Fe-B膜的Hc约高一个数量级;明显低于Fe-B(P),Fe-W(Mo,Sn,Mo-W)-B膜的值;通过Fe-B二元合金镀层的多元化并不改善其μFE(μB)值;Mr/Ms低于Fe-P,Ni-Fe-B膜的值;除元素Sn外,均引起Mr/Ms较大幅度提高,除元素W外,均导致Hc降低.
化学镀 软磁薄膜
王玲玲 赵立华 黄桂芳 袁小俭 张邦维
湖南大学应用物理系(长沙)
国内会议
上海
中文
126-129
2000-09-04（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）