关键词： 硅外延工艺 硅源 本征电阻率
作者: 傅雄强
作者单位: 市半导体技术研究所
会议类型: 国内会议
会议名称: 第十一届全国半导体集成电路、硅材料学术会议
会议地点: 大连
会议语种:中文
页码: 38～40
在线出版日期: 1999-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
(0)